Rapport : ASML révèle une percée dans la source lumineuse EUV, la production de puces pourrait augmenter de 50 % d'ici 2030
Rapport : ASML révèle une percée dans la source lumineuse EUV, la production de puces pourrait augmenter de 50 % d'ici 2030
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« Ce n’est pas un coup de publicité, ni un gadget qui ne peut être démontré que pendant une très courte période, » a déclaré Michael Purvis, directeur technique de la source EUV chez ASML. « Il s’agit d’un système capable de générer de manière stable une puissance de 1 000 watts tout en répondant à tous les besoins réels des clients, » a-t-il ajouté dans les installations de la société situées près de San Diego, en Californie.
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