ASML : prévoit que la production horaire de wafers des machines de lithographie EUV pourrait augmenter de 50 % d'ici 2030

格隆汇2026/02/23 14:25

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Glonghui, le 23 février｜ASML a déclaré qu'en augmentant la puissance, il est possible de porter la puissance de la source de lumière extrême ultraviolet du lithographe à 1000 watts. Il est prévu qu'en 2030, la production de wafers par heure des lithographes EUV augmentera de 50 %.

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