ASMLの最新EUV技術のブレークスルー、ライバル候補との差をさらに広げる

ASML Holding N.V.（NASDAQ:ASML）は、半導体製造技術の限界に挑戦し、半導体の生産量を大幅に増加させ、グローバルな極端紫外線（EUV）市場における支配力を強化する可能性のある画期的な技術を発表しました。

EUVの出力向上でチップ生産量が50％増加の可能性

ASMLの研究者たちは、極端紫外線（EUV）チップ製造装置の内部にある重要な光源の出力を大幅に向上させる方法を開発したと述べています。

この取り組みにより、今後10年の終わりまでにチップの生産量が最大50％増加し、台頭する米国や中国の競合他社に対する同社のリードがさらに強化される可能性があると、ロイターは月曜日に報じました。

ASMLは現在も商用EUVリソグラフィシステムを製造する唯一の企業であり、Taiwan Semiconductor Manufacturing Co. Ltd.（NYSE:TSM）やIntel Corp.（NASDAQ:INTC）などのチップメーカーは、先端半導体を生産するために同社のシステムに依存しています。

米国では、SubstrateやxLightなどのスタートアップ企業が、ASMLの先端チップ製造装置の国内代替品を開発するために数億ドルの資金を集めており、xLightはトランプ政権からの支援も受けています。

ASMLは、同社装置の最も技術的に複雑なコンポーネントを進化させることで、潜在的な競合他社に対するリードを拡大しようとしています。

これらの装置は最先端のチップ生産に不可欠であるため、米国の両政党の政権はオランダ政府と協力し、中国への輸出を阻止してきました。その結果、中国は国内代替品の開発を加速させています。

ASMLは現在、多くの専門家がEUVシステムで最も技術的に要求が高いと考える部分、すなわち大量のチップ生産を支えるのに十分な出力と安定性を持った光を生成することに焦点を当てています。

ASMLのEUV光源の主任技術者であるMichael Purvis氏は、このシステムが顧客が要求する同じ条件下で1,000ワットを安定して生成できると述べています。

ASMLのNXE EUVライン担当エグゼクティブバイスプレジデントであるTeun van Gogh氏は、今後10年の終わりまでに顧客が1時間あたり約330枚のウェハを処理できるようになり、現在の約220枚から増加すると述べています。

Purvis氏は、同社は1,500ワットに到達する明確な道筋が見えており、将来的に2,000ワットに到達するための本質的な障壁はないと述べています。

AI需要に支えられた2025年の記録的な業績

ASMLは、AI関連の強い需要と過去最大の受注残高により、2025年を記録的な業績で締めくくりました。

同社の年間純売上高は391億6,000万ドル、純利益は115億ドルとなりました。

第4四半期だけでも、次世代AIチップの製造に使用される2台のHigh NA EUVシステムの売上計上などにより、116億2,000万ドルの収益を計上しました。

ASMLは第4四半期に167億7,000万ドルの純受注を報告し、そのうち半分以上がEUVシステムに結びついています。

同社は2025年末時点で約464億7,000万ドルの受注残高を抱え、AIや先端チップ生産に投資する半導体顧客からの持続的な需要を反映しています。

CEOのChristophe Fouquet氏は、顧客が中期的な見通しに対してより強い自信を示していると述べており、その主な理由としてAI主導の需要が今後も続くことへの期待が高まっていることを挙げています。

2026年の成長見通しと株価パフォーマンス

今後を見据え、ASMLは2026年の純売上高を407億2,000万ドルから467億ドルの範囲と予想しており、成長の継続を示唆しています。

また、2028年までに最大143億7,000万ドルの自社株買いプログラムを新たに承認し、AI分野の拡大に伴う継続的な成長への経営陣の自信を強調しています。

ASMLの株価は過去12か月で101％上昇し、PHLX Semiconductor Indexの64％のリターンを上回っています。年初来で株価は38％上昇し、同指数の16％を上回りました。

ASML株価の動き：ASML Holdingの株価は火曜日のプレマーケット取引で0.05%上昇し、1,486.68ドルとなっています。同株は52週高値の1,493.47ドル付近で取引されています。

写真：Shutterstockより