ASML odnotowało rekordowy zysk w wysokości 11,5 miliarda dolarów w 2025 roku dzięki popytowi napędzanemu przez AI, planuje zwolnić 1 700 pracowników

HAGA, Holandia (AP) — Holenderski producent maszyn do produkcji półprzewodników ASML odnotował rekordowy zysk netto w wysokości 9,6 miliarda euro (11,5 miliarda dolarów) w 2025 roku przy sprzedaży wynoszącej 32,7 miliarda euro, napędzanej popytem związanym ze sztuczną inteligencją, poinformowała spółka w środę, ogłaszając jednocześnie plany redukcji zatrudnienia o około 1700 osób, czyli około 4% załogi.

Wzrost ten następuje pomimo ograniczeń nałożonych przez rząd Holandii na eksport maszyn, które mogą być wykorzystywane do produkcji chipów przeznaczonych do integracji w systemach zbrojeniowych. Środki te, ogłoszone po raz pierwszy w 2023 roku i później rozszerzone, są postrzegane jako część polityki USA mającej na celu ograniczenie dostępu Chin do takiej technologii.

„W ostatnich miesiącach wielu naszych klientów przekazało wyraźnie bardziej pozytywną ocenę sytuacji rynkowej w perspektywie średnioterminowej, głównie w oparciu o bardziej solidne oczekiwania dotyczące trwałości popytu związanego z AI. Odzwierciedlają to zdecydowane zwiększenie ich planów dotyczących mocy produkcyjnych w średnim okresie oraz nasz rekordowy napływ zamówień” – powiedział w oświadczeniu prezes i dyrektor generalny ASML, Christophe Fouquet.

W wiadomości do pracowników firma poinformowała, że redukuje miejsca pracy, aby stać się bardziej wydajną i zoptymalizowaną. ASML podkreślił, że „decydowanie wprowadza te zmiany w momencie swojej siły. Udoskonalenie naszych procesów i systemów pozwoli nam na dalsze i lepsze innowacje, generując odpowiedzialny wzrost dla ASML i naszych interesariuszy.”

Redukcja zatrudnienia ma na celu zwiększenie koncentracji ASML na inżynierii i innowacjach poprzez usprawnienie działów technologicznych i IT firmy, jak podano w komunikacie.

Firma poinformowała, że oczekuje, iż rok 2026 będzie „kolejnym rokiem wzrostu dla działalności ASML”, napędzanym przez sprzedaż systemów litografii ekstremalnie ultrafioletowej.